一、半导体行业双温区充氮洁净烤箱主要技术参数
1.内胆尺寸：（宽650*高500*深500mm）*2，上下两个温区，温度互不影响；
2.外形尺寸：宽1540*高1600*深850mm；
3.温度范围：室温～+270℃；
4.温度波动度：±1℃；
5.炉内温差：±1℃(空载、恒温状态)；
6.循环风方式：二面水平运风，≥1200立方/时；
7.总功率：21KW；

二、半导体行业双温区充氮洁净烤箱箱体结构特征
1.外壳材料：采用2.0mm厚A3冷板,折弯焊接制作；
2.表面处理：表面打磨、抛光，整机外壳高温静电喷塑处理(RAL7035)，设备满足10K级无尘车间使用；
3.内胆材料：采用1.5mm厚SUS304镜面不锈钢板制作，机身内部全部氩焊满焊处理，成全密闭空间，专业板金施工，不锈钢表面决无括伤且明亮如镜，美观不积尘。
三、半导体行业双温区充氮洁净烤箱培训
免费进(jin)行(xing)技术(shu)培训。